MSP, una delle divisioni di TSI, offre una linea completa di strumenti per la vaporizzazione di precursori liquidi nei processi che necessitano di una fase gassosa come la deposizione chimica in fase vapore (CVD) e la deposizione di strati atomici (ALD), utilizzati nella fabbricazione di dispositivi semiconduttori e nelle applicazioni di coating industriali. I vaporizzatori MSP Turbo II, utilizzano una tecnica di vaporizzazione a gocce, definita “iniezione diretta di liquido (DLI)”, progettata per soddisfare le più moderne ed esigenti esigenze di vaporizzazione.

Questa tecnologia brevettata di MSP, offre un'ampia gamma di vantaggi rispetto alle tecniche più datate e convenzionali. Il vaporizzatore T2 combina la tecnologia avanzata della scienza dell'aerosol con la termodinamica per creare una soluzione più raffinata nella vaporizzazione, ottenuta a temperature inferiori alla media e senza contatto liquido-metallo per non deteriorare il precursore. Si produce vapore on demand con ampia consistenza e soprattutto a pressione costante, niente picchi di pressione in processo.